Tri-layer材料
Category 黃光
内容简介
详细说明:
Tri-layer结构既能有效的减少曝光时的反射,又能提高刻蚀时的选择性,广泛应用于先进光刻工艺中
信越化学Tri-layer材料具有结构简单,低成本,易于刻蚀的优点,同时具备良好的填充性能和抗反射性能
信越化学Si-ARC材料主要产品为SHB系列
信越化学Under layer材料主要产品为ODL系列
用途:
光刻(黄光)制程
规格:
容量单位:加仑
包装材质为棕色的玻璃瓶或PE瓶
0-10°C保存
保税商品
产品联络人
李东 Winter
ADVANCED MATERIAL BUSINESS UNIT
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