详细说明：

Tri-layer结构既能有效的减少曝光时的反射，又能提高刻蚀时的选择性，广泛应用于先进光刻工艺中

信越化学Tri-layer材料具有结构简单，低成本，易于刻蚀的优点，同时具备良好的填充性能和抗反射性能

信越化学Si-ARC材料主要产品为SHB系列

信越化学Under layer材料主要产品为ODL系列

用途：

光刻（黄光）制程

规格：

容量单位：加仑

包装材质为棕色的玻璃瓶或PE瓶

0-10°C保存

保税商品